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【ソウル６日聯合】ナノ素子具現の中核要素技術となる、原子イメージを利用した電子ビームリソグラフィー基幹技術を、国内研究陣が開発した。ソウル大学材料工学部の金起範（キム・ギボム）教授チームが６日、高分解能透過電子顕微鏡から得られるオングストローム（１オングストローム＝０．１ナノメートル）サイズの原子イメージを数十〜数百倍に拡大し、数ナノメートル〜数十ナノメートルサイズのパターンを基板の上に作る技術を開発したと明らかにした。
　 研究陣は、ＡＩＰＥＬ（Atomic Image Projection Electron-beam Lithography）と名付けたこの技術を用い、２０ナノメートル級の量子ドット、量子線を広い面積の基板に形成することに成功した。また、電子顕微鏡などを製造する大手理化学機器メーカー、日本電子（ＪＥＯＬ）との共同研究を通じ、電子イメージを利用した電子ビームリソグラフィー装備も開発した。金教授は、ＡＩＰＥＬ技術は原子イメージを大きく拡大して写真を取るようにパターンを形成することから、パターン形成速度が既存の方法に比べ３３倍以上速く、大きさや密度、距離なども正確に調節可能だと説明している。

　 今回の研究結果は、材料・ナノ分野の国際学術誌「アドバンスト・マテリアルズ」２００７年１２月号で「注目に値する研究」に選ばれた。また、この技術に関連し内外で１３件の特許が出願・登録されている。

http://japanese.yonhapnews.co.kr/itscience/2008/03/06/0600000000AJP20080306001800882.HTML