いよいよ韓国消滅へカウントダウン！

＞次世代半導体でＩＢＭ・ソニー・東芝が２００９年を目途に３２nmの回路の開発に挑んでいるようです。＜


おっしゃる通りです。
日米は、来年中に３２ナノレベルで、８インチ・ウェハでの量産にめどをつけるでしょう。
三星は、それが一番の焦りで、それを量産されると手も足も出ません。

それよりも、フォトマスクも、ガラス基盤から日本製で、製作は大日本印刷あたりになり、ステッパーもキャノンかニコンで、専用レジストもすべて日本製で、ウェハも日本製、線幅確認も日本の検査装置、それらで４０ナノの試作品が完成しましたと言われても、それが何か？という感じでしょう。
４０ナノで二年後に生産と言われても・・・・

なんとなくの感想は、やっぱり、

三星は、フラッシュでも来るところまで来たな・・・としか・・・